光阻剂光刻胶生产厂家材质-,北京赛米莱德公司

光刻胶分类

1、负性光刻胶

主要有聚酸系(聚酮胶)和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的kpr为代表，后者以omr系列为代表。

2、正性光刻胶

主要以-醒为感光化台物，以酚醛树脂为基本材料。的有az-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。

3、负性电子束光刻胶

为含有环---、乙烯基或环---物的聚合物。 的是cop胶，典型特性:灵敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速电压10kv时)、分辨率1.0um、 对比度0.95。-分辨率

的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。

4、正性电子束光刻胶

主要为---、烯砜和-类这三种聚合物。的是pmma胶，典型特性:灵敏度40~ 80μc/cm2 (加速电压20kv时)、分辨率0.1μm、 对比度2~3。

pmma胶的主要优点是分辨率高。主要缺点是灵敏度低，此外在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。

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光刻胶分类概述

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基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。

光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，然后生成聚合物，具有形成正像的特点。

光分解型，采用含有---醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。

光交联型，采用-月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。