DZS800型电子束镀膜机销售择优 沈阳鹏程真空技术
电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀的优势在于:可以为待蒸发的物质提供更高的热量,因此蒸镀的速率也更快;电子束定位准确,可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷,对能量的利用率不高;而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离,也有可能带来污染。此外,大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解,这影响了薄膜的成分和结构 。
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* 带旋转的倾斜沉积
* 行星式基片夹具
* 基片rf/dc偏压
* 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀
* 附加物理沉积源热蒸镀,磁控溅射
* 用于反应蒸镀的mfc
* 不同的泵---择,可升级分子泵为冷泵,前级泵为干泵
* 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹
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1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物---相沉积pvd的工艺方法。
2.蒸发镀主要包括:电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。
3.您所说的e型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。
4.s枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶,阴极靶材为环状锥形,安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场,其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束被约束在靶面附近运动,电子流密度很大,在靶面附近产生很强的非弹性碰撞,电离几率很大,形成很强的等离子体。
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