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宿州除臭治理公司承诺守信
半导体行业有机废气和毒气的来源
半导体制造工艺产生的挥发性有机废气，主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序，在这些工序中要用有机溶液如---1醇对晶片表面进行清洗，其挥发产生的废气是有机废气的来源之一；同时，在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂光刻胶中含有易挥发的有机1溶剂，如---丁酯等，在晶片处理过程中也要挥发到-中，是有机废气产生的又一来源。
与半导体制造工艺相比，半导体封装工艺产生的有机废气较为简单，主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。
含毒气性废气，其来源为化学气相沉积、干蚀刻机、扩散、离子布值机及磊晶等制程时所产生。主要成分是磷1---、shen---、氯1气等。
固废及废气废水处理中的设备有哪些
按设备的功能分类
(1)主体设备指各种用于控制环境污染和---环境的、由生产单位或建筑安装单位制造的主要设备产品。如各种除尘器、吸收塔、吸附塔、分离沉降设备、反应器、塔罐，各种沉淀池、反应池等构筑物。
(2)输送设备指用于配合主体设备，以使其能够正常运转而进行各种物料输送的设备。如用于输送气体物料的设备有送风机、鼓风机、压缩机，用于输送液体物料的设备有泵，用于运输固体污染物料的设备有皮带运输机、螺旋运输机、风力输送机、斗式提升机等。
制药工业废气处理
生物制药行业的废气，也是值得关注的主要污染源之一，以其代表性的原1料药车间为例，其生产过程主要四个步骤，基本为间歇式投料，24小时生产，在排出的废气中含有甲ben、乙1酸乙1酯、甲1醇、二氧六环、三---、dmso等多种复杂的有机物成分，现部分车间已用pvc管和pvc收集罩收集后输送到简易水洗塔经过水洗排放。排放废气中有机物的总浓度平均值约为1500毫克/立方米左右，对厂区及周边环境造成较大的污染，环境需要进行有效治理，已达到规定的排放标准。生物制药干燥废气处理、药行业生产过程中在发酵、干燥、污水处理等工序均产生大量的恶臭异味气体，发酵工段产生的含氨废气(扩散型)未经处理、生产过程中产生的废气已影响企业的环境空气和人体健康，亟待处理。
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