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大样片离子束刻蚀机工作原理服务为先「在线咨询」
创世威纳——离子束刻蚀机供应商，我们为您带来以下信息。
#.在设备工作时,禁止扶、靠设备，禁止触摸高频电缆和线圈，以免发生意外
#.高频电源实际使用功率不能超过较大---#.检查设备时，必须关机后切断电源
#. 工作场地必须保持清洁、干燥，设备上及设备周围不得放置无关物品，---是易1燃、易1爆物品
#.长期停放时注意防潮，拆除电源进线，每隔3-5天开一次机，---反应室真空以免被污 染
#.设备停机、过夜也要保持反应室真空，如停机较长时间后再进行刻蚀工艺，需---行一次空载刻蚀，再刻蚀硅片
刻蚀精度主要是用保真度、选择比、均匀性等参数来衡量。所谓保真度度，就是要求把光刻胶的图形转移到其下的薄膜上，即希望只刻蚀所要刻蚀的薄膜，而对其上的掩膜和其下的衬底没有刻蚀。事实上，以上三个部分都会被刻蚀，只是刻蚀速率不同。选择比就是用来衡量这一指标的参数。s=v/uv为对薄膜的刻蚀速率，u为对掩膜或衬底的刻蚀速率，s越大则选择比越好。由于跨越整个硅片的薄膜厚度和刻蚀速率不尽相同，从而也导致图形转移的不均匀，等离子刻蚀机尤其是中心和边缘相差较大。因而均匀性成为衡量这一指标的重要参数。除以上参数外，刻蚀速率也是一个重要指标，它用来衡量硅片的产出速度，刻蚀速率越快，则产出率越高。
本产品信息有创世威纳提供，如果您想了解更多产品信息您可拨打图片上的电话进行咨询！
石英晶体谐振器制作
石英晶体的谐振频率与其厚度有关。用机械研磨和抛光致薄的晶体，可制作低频器件，但频率超过20mhz时， 上述工艺已不适用因为极薄的晶片已不能承受机械应力。采用离子束抛光，可以不受此---。石英晶体谐振器的金属引线要求重量轻、低电阻，通常用铝沉积在晶体表面沟槽中，以高电导率铝作引线电极。用离子束溅射加工晶体_上的沟槽是有效的方法。
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