苏州制版公司常用解决方案,光刻版厂

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如icintegrated circuit，集成电路、fpdflat panel display，平板显示器、pcbprinted circuit boards，印刷电路板、memsmicro electro mechanical systems，微机电系统等。

烤版如需要烤版，烤版时要注意：首先要选好烤版胶，烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制，一定要用热水溶胶，胶要---溶开、过滤再用。把适量的烤版胶涂在版面上，用海绵将版面涂擦均匀。烤版胶不能用干布擦拭。版材在烘版箱中烘烤，图像区域会均匀变色。不同的ps版，烘烤时间、温度及终颜色会不一致，所以需通过试验确定烤版条件。

烤版时还要注意：烤版箱内的红外灯管一定要横向排列，如纵向排列，往往导致印版瓦楞状变形而影响使用。烤版胶浓度要合适，如烤版胶太稠，烤版效果和上墨效果也不会令人满意；如烤版胶太稀，烤出的版容易上脏。烤版温度不能过高，温度过高也会导致铝版基韧化和发软，树脂层焦化，影响耐印力。