南京光刻版承诺守信「在线咨询」
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
尺寸涨缩原因分析
胶片在光绘前没有经过预置
由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致,因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时,预置时必须打开胶片的内包装,使其与外界的空气充分接触。
光罩英文:reticle, mask,在制作ic的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型---晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像至相片上。
掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备而成。石英掩膜版使用石英玻璃为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整和耐磨,使用---,主要用于掩膜版使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。
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