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用选定的图像、图形或物体,对处理的图像全部或局部进行遮挡,来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中,掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中,掩模为二维矩阵数组,有时也用多值图像。
一种具有保护环的光刻板,包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环,所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起,所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔,所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处,所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘,所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。这层光阻剂在---一般是紫外线后可以被特定溶液显影液溶解。
通过金属化过程,在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在---一般是紫外线后可以被特定溶液显影液溶解。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图:在制造芯片时,首先在晶圆硅晶片表面涂光感胶,再用光线透过掩模版相当于芯片电路图纸的底片照射硅片表面,被光线照射到的光感胶会发生反应。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上,可以对光刻胶进行选择性照射---。然后使用前面提到的显影液,溶解掉被照射的区域,这样,光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施,---剩余部分光刻胶的一些性质。
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