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相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000v高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

为什么真空镀膜的镀铝不导电？因为镀膜总共有三层，外层的uv光油经uv照射后起到固化耐磨绝缘的作用，但是一旦这层膜被破坏就导电了。

真空镀膜技术是近年发展起来的一项新技术。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。它的原理是金属固体(如铝线等)在高真空状态下受热气化，再以分子或原子形态沉积在基材表面，从而在镀件表面形成一层薄薄的金属膜。由于金属气化后均匀地分布于镀膜机腔体内，所以，通常情况下，镀件表面形成的金属膜十分均匀。