新北化学气相沉积技术“本信息长期有效”

膜层结合力强，在真空电镀加工过程中，有部分电子撞击到基材表面，表面原子，并且产生清洁的作用，而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时，有更多的能量可以传递到基材上，产生更多的热能，使被电子的原子加速运动，与部分镀材原子更早互相溶合到一起，其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜，加强了膜层与基材的结合力。pvd镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

物---相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。这种镀膜玻璃的色泽单调、透光率大，大面积玻璃膜层不均匀，不适宜作幕墙玻璃。同时，物---相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物---相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高---性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。