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基体外表状况对联系力的影响

　　联系力通常是指一个物体粘刭另一个物体上的规模和程度。若一个镀层因机械力或变形而掉落，或被气体吹脱，或是被腐蚀而剥离，则镀层缺少联系力。尤其是老人手机、儿童手机、手机、商务手机等等定制型手机的出现，更是将全社会消费人群一网打尽。联系力是电堆积的重要性能指标，它与基体资料电镀前的外表状况有着十分直接而重要的联系，而联系力的好坏又直接影响着镀层的好坏。

　　若是基体资料外表存在着很多的油污、锈蚀产品等污物，电镀层不能直接与基体资料外表相联系，然后致使镀层的逐渐起皮、掉落等，这也是镀层与基体资料外表联系力---的原因。相反，若是在电镀前，电镀出产线上的基体资料外表得到了-的清洗，电镀层就会直接接触到基体资料的外表，并与之结实联系。如用---溶液镀铬，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，镀液的掩盖才能顺次递减。

基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

　　一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。真空镀膜技术一般分为两大类，即物---相沉积pvd技术和化学气相沉积cvd技术。别的，若是基体外表镀前处置---，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。

真空镀膜金属真空镀膜厂

真空镀膜是在真空-钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。

与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是-工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术、溅射镀膜包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术，这些方法统称物---相沉积， 简称为pvd。与之对应的化学气相沉积简称为cvd技术。镀膜设备种类复杂，只需要按照大的工艺分常有的，比如蒸发、磁控溅射、离子等pvd镀膜技术，按没个镀膜加工企业要求不同又需要配置不同的设备和程序。

通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大大提高了它的物理、化学性能。其优点主要表现在

一、---美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

二、---表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；

三、提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射强，因此，耐候性大大提高；

四、减少吸水率，镀膜次数愈多，针i孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；

五、使塑料表面有导电性；

六、容易清洗，不吸尘。