夏邑镀钛厂家公司厂家-,金常来镀钛-

pvdphysical vapor deition，在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。pvd主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。

蒸发镀膜

真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。

采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，如铝、金、银、---锌、---镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。

其缺点是：

1工艺比传统单色pvd的更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高；

2生产良率低，大约为65～70%传统单色pvd的生产良率一般为85～90%；

3价格会比传统单色pvd的高50～60%；

4因工艺和流程的影响，双色pvd生产---较多，受产品结构的影响较大，而传统单色pvd则几乎不受---

现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅 射技术、辅助阳极技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。射频溅射采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，溅射时，靶极会产生自偏压效应即靶极会自动处于负电位状态，使绝缘靶的溅射得到维持。