激光脉冲沉积设备厂家咨询 沈阳鹏程

脉冲激光沉积的优点

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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有-的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有---；

4. 发展潜力-，具有-的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

脉冲激光沉积系统(pld)的特点

pld系统拥有好的性能价比，具有以下优异的性能:

★主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵

★基片加热温度可达1200℃。基片台可360度旋转转速1-20rpm可调。

★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿z轴即垂直地面方向可调。各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。

★同一load lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体包括腔体系统和激光器同时移动与固定。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首,服务为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积系统,公司拥有-的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！