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磁控溅射仪报价- 沈阳鹏程公司

发布者:沈阳鹏程真空技术有限责任公司  时间:2020-7-7 






磁控溅射设备的主要用途

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1各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。

2装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。

3 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积cvd或金属有机

4化学气相沉积cvd生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

5 在光学领域:中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜如增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

6在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。



磁控溅射镀膜设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商,我们为您带来以下信息。

1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.时装装饰领域的应用,比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜,可适用在手机外壳、鼠标等产品上。

3.微电子行业领域中,其是一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气象沉积上。

4.在光学领域中用途---,比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。

5.在机械行业加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能,能够延长物品使用周期。



镀膜时样品中间会不均匀什么原因?

途中主要表述是溅射过程中,物质的动向图。并没有磁控条件---。

顶部是靶材/阴极;中间为辉光区域;底部是溅射基体。

靶材和辉光之间为电压降区域,给正离子提供足够能量的电场,正离子加速轰击到靶材上,使靶材的物质溅射出来,沉积到基体上两侧的长线;负离子、电子保持在辉光区,轰击气体原子。

辉光区发射出电子、离子、中性原子、光子等,这些组成等离子体宇宙99%以上的组成物质为等离子体

辉光和基体之间电压降很小。

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