天津天津净化工程厂家
在相对湿度较高的环境中,浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键,可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要,但当相对湿度在70%左右时,就成为颗粒之间黏附的主要力量。 到目前为止,在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度---敏感的特性,它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。 实际上,相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下,光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然,改变粘性,就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2a。 此外,在高的相对湿度环境下,由于水分的吸收,使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可 以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着容易,甚至不需要聚合改性剂,如六二硅氮烷(hmds)。
洁净室地面应符合下列规定
洁净室地面应符合下列规定: 1.洁净室地面应符合生产工艺要求。 2.洁净室地面应平整,耐磨、易清洗、不开裂、且不易积聚静电。 3.地面垫层宜配筋,潮湿地区垫层应有防潮措施。 洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚表面宜平整、光滑、位于地下的技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。 洁净室区和人员净化用室设置外窗时,应采用双层玻璃固定窗,并应有---的气密性。 洁净室内的密闭门应朝向空气洁净度较高的房间开启,并应加设闭门器,无窗洁净室的密闭门上宜设观察窗。
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