登录后台
大样片离子束刻蚀机生产厂家的行业须知「在线咨询」
发布者：北京创世威纳科技有限公司 时间：2020-7-15
创世威纳——离子束刻蚀机供应商，我们为您带来以下信息。
利用辉光放电原理将ya气分解为ya离子，ya离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。把ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面轰击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。
以下内容由创世威纳为您提供，今天我们来分享刻蚀工艺过程的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！
等离子体刻蚀工艺包括以下六个步骤。 分离： 气体由等离子体分离为可化学反应的元素； 扩散： 这些元素扩散并吸附到硅片表面； 表面扩散：到达表面后， 四处移动； 反应： 与硅片表面的膜发生反应； 解吸： 反应的生成物解吸， 离开硅片表面； 排放： 排放出反应腔。
刻蚀的理想结果是将掩模(mask)的图形准确地转移到基片_上，尺寸没有变化。由于物理溅射的存在，掩模本身的不陡直和溅射产额随离子束入射角变化等原因，产生了刻面( faceting)、槽底开沟(trenching/ditching) 和再沉积等现象，这些效应的存在降低了图形转移精度。
想要了解更多离子束刻蚀机的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！
联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/18094728.html
声明提示：
本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。
