武汉离子氮化炉电话

湖北丰热科技有限公司原武汉离子热处理研究所，制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

辉光离子氮化是利用辉光放电原理进行的。辉光放电是当气体越过电晕放电区后，若减小外电路电阻，或提高全电路电压，继续增加放电功率，放电电流将不断上升。同时辉光逐渐扩展到两电极之间的整个放电空间，发光也越来越明亮。当电子能f提高，也就是增强电场的操作参数，则能使电晕放电过渡到辉光放电。这种装置是具有辉光放电机构的加热渗碳室和油淬火室的双室型热处理炉。

在运行的射频辉光放电等离子体中，由于离子和电子迁移率的不同将导致阴极负偏压的形成，在阴极表面建立一个直流负偏压是进行射频溅射工艺的-条件。两个面积相等的电极置于射频辉光放电等离子体中，不可能建立阴极靶表面的负偏压，不可能产生溅射。

次-压下辉光放电(hapgd)由于-压辉光放电技术目前虽有---但技术还不成熟，没有见到可用于工业生产的设备。而次-压辉光放电技术则已经成熟并被应用于工业化的生产中。次-压辉光放电可以处理各种材料，成本低、处理的时间短、加入各种气体的气氛含量高、功率密度大、处理。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和纺织品的表面处理。当电源输出脉冲的重复频率很低(例如几百hz以下)或灭弧时间过长(大于100ms以上)，溅射靶起辉放电后，由于真空腔体内的导电离子已基本被中和掉，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压恢复至较高数值，与点火起辉时的高电压接近或相同。

次-压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电；若半周期内多个电流脉冲，并且lisajous图形为斜平行四边形，则为丝状放电。放电时电极两端的电压低而功率密度大；处理纺织品和碳纤维等材料时不会出现击穿和燃烧并且处理温度接近室温。次-压辉光放电技术目前可用于低温材料、生物材料、异型材料的表面亲水处理和表面接枝、表面聚合、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成等工艺。由于是在次-压条件下的辉光放电，处理环境的气氛浓度高，电子和离子的能量可达10ev以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。 可处理金属、非金属、碳纤维、金属纤维、微粒、粉末等。