河南离子氮化炉电话「多图」

湖北丰热科技有限公司原武汉离子热处理研究所，制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

在置有板状电极的玻璃管内充入低压约几毫米厷柱气体或蒸气，当两极间电压较高约1000伏时，稀薄气体中的残余正离子在电场中加速，有足够的动能轰击阴极，产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒子，使气体导电。操作比气体渗氮复杂，需要控制的厂艺参数多，测量温度和控制温度均匀比较难。辉光放电的特征是电流强度较小约几毫安，温度不高，故电管内有特殊的亮区和暗区，呈现瑰丽的发光现象。

两种靶电源不同之处：选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源，因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节，镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多；适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。??磁控靶阴极电压极性为负时，其单脉冲气体放电应与直流气体放电伏-安特性曲线异常辉光放电段及之前段的变化规律(趋势)相符。?(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄，若相关参数选配合适，一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中，其优点是靶电源价格可以相对便宜。??

在运行的射频辉光放电等离子体中，由于离子和电子迁移率的不同将导致阴极负偏压的形成，在阴极表面建立一个直流负偏压是进行射频溅射工艺的-条件。两个面积相等的电极置于射频辉光放电等离子体中，不可能建立阴极靶表面的负偏压，不可能产生溅射。

次-压下辉光放电(hapgd)由于-压辉光放电技术目前虽有---但技术还不成熟，没有见到可用于工业生产的设备。而次-压辉光放电技术则已经成熟并被应用于工业化的生产中。在置有板状电极的玻璃管内充入低压约几毫米厷柱气体或蒸气，当两极间电压较高约1000伏时，稀薄气体中的残余正离子在电场中加速，有足够的动能轰击阴极，产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒子，使气体导电。次-压辉光放电可以处理各种材料，成本低、处理的时间短、加入各种气体的气氛含量高、功率密度大、处理。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和纺织品的表面处理。