两酸抛光 公司品牌企业「在线咨询」

电化学抛光原理电化学抛光也称电解抛光。电解抛光是以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而使工件表面光亮度增大，达到镜面效果。

工艺流程化学(或电化学)除油***热水洗***流动水洗***除锈(10%---)***流动水洗***化学抛光***流动水洗***中和***流动水洗***转入下道表面处理工序工作环境：传统抛光工艺工作环境-，抛光过程中产生沙粒，铁屑，粉尘等，---污染环境；.加工效率：人工抛光；豪克能工艺属于以车代磨，线速度可达50-80 m/min,进给量可达0.2-0.5mm/r,相当于半精车的效率。铺料消耗：抛光需要消耗抛光轮、磨料、砂带等辅料；适应性：抛光可以加工平面等简单的型面，对于曲面无法加工。如果加工r弧，曲面等复杂型面，可采用豪克能抛光工艺。

注意事项1、 抛光时必须坚持“宁可慢，不可快，宁轻，勿重”的原 则，避免抛漆。2、 把电线背起来，以免-、伤机、缠线，严禁电线接触。3、 抛光蜡可先倒在漆面上均匀分散，防止漆面飞溅。4、 漆面抛光前建议先用洗车泥擦拭，去除油漆表面附着的表层颗粒和污染物。5、 抛前机盖时，用大毛巾或者是遮蔽膜盖住前挡玻璃，避免抛光蜡沾在玻璃密封条与雨刮器上难以擦除。6、 抛光蜡均匀涂在羊毛盘或海绵盘上，防止飞溅、浪费材料。7、 使用完毕后正确放置机器，两手柄支地，毛轮朝上。

氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级ceo2为磨料的氧化研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

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