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物---相沉积pvd

物---相沉积是指在真空条件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术。

物理沉积技术主要包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀三种基本方法。

物---相沉积具有适用的基体材料和膜层材料广泛；工艺简单、省材料、无污染；获得的膜层膜基附着力强、膜层厚度均匀、致密、少等优点。

广泛用于机械、航空航天、电子、光学和轻工业等领域制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、绝缘、光学、磁性、压电、滑润、超导等薄膜。

气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。

根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物---相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd)两大类。

钝化是将金属置于亚、、-盐或者---酸盐溶液中处理，使金属表面生成一层-盐钝化膜的过程，又称-盐处理。

-盐钝化膜主要有三价铬与六价铬的化合物以及基体金属的-盐组成。外观随合金成分、膜厚而变化，可由无色到彩虹色或棕黄色。膜层具有-的耐蚀性和装饰性；膜层紧密，与基体结合较好，对基体金属可起到隔离保护作用。膜中的三价铬不溶于水，构成膜的骨架，使膜有较高的强度和化学稳定性。而六价铬是可溶性的，在膜中起填充作用，在潮湿的-中，即使膜被划伤，六价铬也能溶于水生成-盐，使划伤处重新钝化而具有自愈合能力。