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uv光氧化设备光催化处理反响机理
光催化是一种的氧化技能, uv光氧化设备选用半导体材料作为催化剂, 当能量相当于半导体禁带宽度的光照射到催化剂外表时, 就会激起半导体内的电子从价带跃迁至导带,构成具有很强活性的电子2空穴对,并进一步-一系列氧化复原反响,然后到达去除污染物的意图。但合理操控水蒸气含量也具有重要意义,当水蒸气浓度过高时,水分子与其他中心反响物呈现竞赛,光催化进程反响才能下降。现在,大多数光催化剂为半导体资料, 常见的有tio2、zno、cds、wo3、fe2o3、pbs、sno2、ino3、zns、srtio3、lacoo3、sio2等十几种, uv光氧化设备按成分可分为氧化物光催化剂(如tio2、zno)、---物光催化剂(如cds、zns)和复合氧化物光催化剂(如srtio3、lacoo3)。在很多光催化剂中,因为tio2具有杰出的化学、生物和光稳定性,且没有毒性、催化活性高、价格合理、运用-,被-为是醉佳的光催化剂.
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