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物---相沉积pvd

物---相沉积是指在真空条件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术。

物理沉积技术主要包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀三种基本方法。

物---相沉积具有适用的基体材料和膜层材料广泛；工艺简单、省材料、无污染；获得的膜层膜基附着力强、膜层厚度均匀、致密、少等优点。

广泛用于机械、航空航天、电子、光学和轻工业等领域制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、绝缘、光学、磁性、压电、滑润、超导等薄膜。

气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。

根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物---相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd)两大类。

机械抛光

依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用，除去试样磨面上的极薄一层金属。表面淬火

利用快速加热使表层奥实体化，立即淬火使表层组织转变为马氏体以强化表面，心部组织基本不变。

感应加热

利用交变电流在表面感应-涡流，使金属表面迅速加热形成氧化层。

【金属表面涂层】

表面涂层方法是通过物理或化学的方法在基体材料表面制备一层与基体组织结构和性能不同的镀层或膜层。根据涂层作用原理不同，又可大致分为转化膜层和沉积膜层两类。

转化膜层是通过金属基体与环境相通常为液体发生某种特定的化学反应而在基体表面原位生长的膜层，化学组成多为无机成分。由于原位生长的特殊性，转化膜通常具有较高的膜基界面结合强度。目前形成转化膜的方法主要包括钝化passivation、阳极氧化anodization、微弧氧化micro-arc oxidation、离子注入ion implantation以及化学转化chemical conversion等。

装饰性

金属材料由于本身特性，会随着时间、环境的变化产生锈蚀等变化，失去金属本身的光泽。表面处理可赋予金属材料表面一定的光亮度、色彩度和花纹图案，对金属表面起到美化效果。如激光雕刻、光化学腐蚀、金属压花以及各种表面喷涂等。甚至在一些特殊的金属装备表面可以应用表面处理技术，使其表面有效消除反光或吸收光线以利于隐蔽。