镇江掩膜板--“本信息长期有效”

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。烤版胶浓度要合适，如烤版胶太稠，烤版效果和上墨效果也不会令人满意。其工艺直接影响着器件成品率、---性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。

机显时还要注意以下几点：要定期维护显影机，以---已---的ps版显影能正常进行。光刻掩膜版材质可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他包含凸版、菲林等。在显影之前必须保持各传动辊清洁，若牵引辊不干净，显影时印版易粘上脏点。如显影机有涂胶装置，一定注意胶辊要保持清洁，否则要弄脏印版。一般情况下，阳图ps版显影液(原液)的显影能力为10m2/l。上保护胶时，一定要均匀施胶，不能太厚，以免干后导致涂层龟裂和掉版。