OLED多源蒸发镀膜机公司多重优惠

parylene裂解仪

parylene用-的真空气相沉积工艺cvd技术制备，由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被业内称为当今的防潮、防霉零级、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。oled有机无机联合蒸发系统的用途：适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有-的生物兼容性,生物稳定性，并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。

1.一腔体，采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。

4. 控制系统，采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择recipe 。

5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃

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小方分子提纯设备oled多源蒸发镀膜机公司

小方分子提纯设备　　

主要用途：　　

用来生长有机材料提纯的研究工作。　　

系统组成:　　该类设备为单室结构。　　

技术指标：　　

---真空≤610-4pa，工作压力≤2*10-3pa；　　

系统漏率≤6.7×10-7pal/s。　　

镀膜室：腔室尺寸约为φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。　　

抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；　　

样品可加热，加热温度为：200-600℃；

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统　　

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电阻蒸发镀膜设备介绍

工作原理：真空电阻蒸发镀膜设备是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝铝丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

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