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 2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。

   2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。

   2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电压，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。

   2.2.5高频二极溅射highfrequencydiodesputtering：通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。

   2.2.6热阴极直流溅射三极型溅射hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极靶之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。

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 真空镀膜加工,真空镀膜价格不论是工作在自动工作方式，还是手动维护方式，输出量的互锁保护都是非常重要的。为防止误操作，我们设计了互锁电路和程序互锁。条件不充分按错键时，系统给予提示不执行错误命令。如工艺过程中工艺气体充气流量稍低于设定流量时，给予黄灯讯响---仍然继续工作，压力恢复后流量转为正常，绿色指示灯亮。但当流量低于设定的下-，红灯点亮报警，停止工艺进程真空镀膜加工,真空镀膜价格。

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真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法

随着基础工业及-产品的发展，对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸，-在该领域与相关学科相互局势下，

表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法：

目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有误差，所以不是-确，需要依靠经验。

极值监控法：当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就可以知道镀膜之光学厚度nd是监控波长的四分之一的整倍数。但是极值的方法误差比较大，因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢，亦就是膜厚nd增加很多，r/t才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之-长处。

3.定值监控法：此方法利用停镀点不在监控波长四分之-位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率---，此即为停止镀膜点。