六-硫供应商-“本信息长期有效”

用途：

可用于有色金属的冶炼和铸造工艺，也可用于铝及其合金熔融物的脱气和纯化。在微电子业中，可用六---硫蚀刻硅表面并去除半导体材料上的有机或无机膜状物，并可在光导纤维的制造过程中，作为单膜光纤隔离层掺杂剂。加有六---硫的电流遮断器额定电压高，且不易i燃烧，另外，六---硫还用于各种加su器、压蓄电器、同轴电缆和微波传输的绝缘介质。sf6气体的密度大约是空气的五倍、sf6气体如有泄漏必将沉积于低洼处，如电缆沟中。目------硫是应用较为广泛的测定---污染的示踪剂，示踪距离可达100km。六------学稳定性好，对设备不腐蚀，在冷冻工业中可作为冷冻剂(操作温度在-45～0℃之间)，作制冷剂替代氟利昂，对臭氧层完全没有破i坏作用，符合和使用性能的要求，是一种很有发展潜力的制冷剂。用作电气绝缘介质和灭弧剂，测定---污染程度的示踪剂。

纯净的sf6气体虽然---，但在工作场所要防止sf6气体的浓度上升到缺氧的水平。sf6气体的密度大约是空气的五倍、sf6气体如有泄漏必将沉积于低洼处，如电缆沟中。浓度过---出现使人窒息的危险，设计户内通风装置时要考虑到这一情况。

高压击穿技术。

dian击穿技术是从sf6在电力上的典型应用——作为绝缘气体应用在gis开关柜中演变而来的。其工作原理是根据sf6气体绝缘的特性，从置于被检测空气中的高压电极间dian压的变化来判断空气中是否含有sf6气体。dian击穿技术是从sf6在电力上的典型应用——作为绝缘气体应用在gis开关柜中演变而来的。因其结构相对简单，成本低，检测精度相对高的特点。

高纯六---硫的应用

 六---硫的使用可以增加设备运行的安全性、缩小设备体积、延长设备寿命。近几年，大力发展基础电力行业，给六---硫厂家带来了很大的市场机遇。

高纯六---硫(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，而且附加值较高。

 高纯六---硫主要用于半导体工业中作清洗气体。

 六---硫的成本只有nf3的几分之一，近年来，各公司以廉价的sf6取代以往cvd工艺中作为清洗气体的nf3的新技术正被广泛研究。

 该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的cvd气体成本的同时，还显示出了极i佳的前景，近年来用量有明显的提高。

 据权i威---，2010年我国将成为仅次于美国的第二大集成电路市场，总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯六---硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右，

 国内使用六---硫作为蚀刻气的生产线有近50条，在未来的五年预计将有-至30条新线建成。每年约消耗高纯六---硫为600吨左右。还可以金属氧化物为催化剂于300℃下用空气氧化四---liu，或者在500～2000℃使---硫热解。而国内高纯六---硫产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给高纯六---企业提供更多的发展机遇。