RD6光刻胶厂家给您好的建议 赛米莱德公司

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二、预烘和底胶涂覆pre-bake&primer vapor

由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100 °c。这是与底胶涂覆合并进行的。

底胶涂覆增强光刻胶(pr)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (hmds)、在pr旋转涂覆前hmds蒸气涂覆、pr涂覆前用冷却板冷却圆片。

nr9-250p

20．有没有光刻胶pc3-6000的资料吗？

a pc3-6000并不是光刻胶，它是用在chip

on glass 上的胶粘剂。

21．是否有wax替代品？

a pc3-6000可替代wax做晶片和玻璃的固定，比较容易去除掉。

22．贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料？

a 有，ic1-200就是

23．请问是否有不用hmds步骤的正性光刻胶？

a 美国futurrex 整个系列的光刻胶都不需要hmds步骤，都可以简化。

24．一般电话咨询光刻胶，我们应该向客户咨询哪些资料？

a 1 需要知道要涂在什么材质上，2

还有要知道需要做的膜厚，3

还要知道光刻胶的分辨率

4还有需要正胶还是负胶，5

需要国产还是进口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻胶，有什么光刻胶可以做到啊！

a 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到futurrex

nr21-20000p ，。

28．有没有了解一款美国futurrex

nr9-250p的光刻胶，请教下？

a 这是一款负性光刻胶，湿法蚀刻使用的，附着力---，耐100度的温度，国内也有可以代理的公司，futurre

光刻胶是第4大的电子化学品制造商，在光刻胶的领域有着---的声誉，在太阳能光伏，和led半导体行业都有---的市场占有率。

29．想找款膜厚的产品，进行蚀刻，有什么好？

a 厚膜应用thick

film applicati，主要是指高纵横比aspect

ratios,高分辨率，高反差，有几款产品向你一下《nr4-8000p，nr2-20000p，nr5-8000，这些产品都需要用到边胶清洗液》

的光刻

光刻胶

光刻胶组分及功能

光引发剂

光引发剂吸收光能辐射能后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

树脂

光刻胶的基本骨架，是其中占比较大的组分，主要决定---后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、---前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。

溶剂

溶解各组分，是后续聚合反应的介质，另外可调节成膜。

单体

含有可聚合---团的小分子，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。