汕头钙钛矿镀膜机价格信息 沈阳鹏程
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等,半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标:
---真空度4×10-5pa,系统漏率:1.2×10-7pal/s; 恢复真空时间:40分钟可达6.0×10 pa-4
真空室:d形真空室,尺寸350× 400mm
样品台:尺寸为4英寸4平面样品;
有机束源炉:数量:4支,标准型600度控温;
样品架:安装加热炉。基片的温度从室温至600℃硅片上表面的温度,只需标定一次即可
4套挡板系统:动密封手动控制;
样品挡板1套,磁力拨叉,
膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?
1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。
2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,烘烤加热温度为≤180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
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