四-碳价钱-种类齐全「在线咨询」

四---碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在---层中，是一种非常---的温室气体。因为四---碳和四---1硅都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四---碳的热稳定性---。将其通过装有氢1氧化钠溶液的洗气瓶除去四---1硅，随后通过硅胶和五1氧化二磷干燥塔得到终产品。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

四---碳的密度比较高，可以填满地面空间范围，在不通风的地方会导致窒息。四---碳成品应存放在阴凉，干燥，通风的库房内，严禁曝晒，远离热源。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四---碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。

四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。四氯1化碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。

对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的，就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，发挥性较高.预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。