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安徽氧-MGO晶体单晶厂家-品类齐全,合肥合瑞达--
氧-(mgo)晶体属于氧-高1端产品中的高1级产品，科技含量高，附加值大。因此高氧-(mgo)晶体产品的研制和生产，对开发我国特有的资源优势有着十分重要的意义。具有岩盐晶体结构的mgo是一种宽禁带氧化物绝缘体，带隙eg为7.8 ev。优良的绝缘性、热传导性、热稳定性等特点使得mgo具有十分广泛的应用。氧-(mgo)不仅可以作为催化剂、抗1菌剂，还可作为传感材料、电器绝缘材料等，并且可以用作磁隧道结的绝缘层。
氧-(mgo)是一种典型的碱土氧化物,其晶体为岩盐结构,是研究晶体色心性质的重要材料,也是一种重要的光学及光电子学材料。氧-mgo是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片直径2英吋及，所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
氧-mgo是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片直径2英吋及，所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
主要性能参数 尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm；厚度：0.5mm，1.0mm；抛光：单面或双面；晶向：<001>;±0.5o；晶面定向精度:±0.5°；边缘定向精度:2°特殊要求可达1°以内；斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜倾斜角1°－45°的晶片；ra:≤5a5μm×5μm。
在高温超导领域，氧-晶体作为薄膜生长基片和半导体材料的衬底驻基片同其它材料相比(如金刚石、白蓝宝石等)具有明显的-，且性能-。氧-的熔点在2800°c以上，沸点为3600°c，所以要想得到大尺寸、高纯度的氧-单晶，对原料的选择和控制要求非常严格。其次，要得到生长好、大尺寸的高晶体，整个冶炼过程非常耗时耗能，将长达几十个小时。
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