小型微弧氧化电源择优

微弧氧化技术

      在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能描述陶瓷层的形成。

      微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有-的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理，以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。微弧氧化技术具有操作简单和易于实现膜层功能调节的特点，而且工艺不复杂，不造成环境污染，是一项全新的-型材料表面处理技术，在航空航天、机械、电子、装饰等领域具有广阔的应用前景。

微弧氧化现象及特点

       在阳极氧化过程中，当铝合金上施加的电压超过一定范围时，铝合金表面的氧化膜就会被击穿。膜层硬度高维氏硬度可由几百至三千左右膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。随着电压的继续不断升高，氧化膜的表面会出现辉光放电，微弧和火花放电灯现象。在微弧氧化的过程下，原来生产的氧化膜不会脱落，只有表面一部分氧化膜可能会被粉化而沉淀在溶液中，脱落的表面可以继续氧化，随着外加电压的升高，或时间的延长，微弧氧化膜厚度会不断增加，直至达到外加电压所对应的终厚度。

微弧氧化为什么要进行预处理

      铝、镁、铁等轻金属进行微弧氧化处理，需要进行预处理，是因为长期露在空气中表面易发生氧化，容易形成一层钝化膜，同时，铝、镁、钛等轻金属容易吸附一些杂志，为-微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能，所以给铝、镁、钛等轻金属进行微弧氧化前进行预处理是很有-的，是为了-微弧氧化的效果。微弧氧化微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化设备、微弧氧化技术原理、微弧氧化工艺

      微弧氧化又称微等粒子氧化或阳极火花沉积，是一种在al、mg、ti等有色金属表面原位生长陶瓷膜的表面处理新技术，技术上具有性。该技术能够-地---铝、镁、钛合金的耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能。微弧氧化技术工艺处理能力强，可通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层以满足不同目的的需要。在铝、镁合金等轻金属表面制备具有高色彩、多用途的陶瓷釉膜层。所得复合膜层的性能明显优于单一微弧氧化或传统涂装膜层，其优异的表面防护效果满足了铝镁合金零件于各种环境条件下的表面性能要求。同时色彩更鲜艳，满足商业消费者的外在需求。