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物---相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。

认识pvd物---相沉积技术

物---相沉积技术工艺过程简单，对环境---，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

总之，化学气相沉积就是，利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。其过程如下：

1反应气体向工件表面扩散并吸附。

2吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。

3生成物质点---成晶核并长大。

4表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。

5沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散，而形成镀层。

cvd法是，将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中，其覆膜厚度一般为6-10μm。

采用化学气相沉积处理时，应注意以下问题：

1要考虑模具锐角部分的凸起变形

由于涂层与基体的线胀系数不同，模具棱角处容易产生应力集中，基材会被挤出形成凸起。可以采取的解决方法是：将锐角处加工成圆弧状，或是估计凸起变形量的大小，预先加工成锥形。

2cvd沉积温度高而带来的尺寸和形状变形

其变形程度取决于所选用的材料、形状、沉积温度、涂层厚度以及预备热处理等。

在cvd处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢cr12mov、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，所以不宜进行cvd处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，使用时必须充分估计其膨胀变形量。

pcvd工艺参数包括微观参数和宏观参数。微观参数如电子能量、等离子体密度及分布函数、反应气体的离解度等。宏观参数对于真空系统有，气体种类、配比、流量、压强、抽速等；对于基体来说有，沉积温度、相对位置、导电状态等；对于等离子体有，放电种类、频率、电极结构、输进功率、电流密度、离子温度等。以上这些参数都是相互联系、相互影响的。