光刻胶分类
市场上，光刻胶产品依据不同标准，可以进行分类。依照化学反应和显影原理分类，光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶。使用正性光刻胶工艺，形成的图形与掩膜版相同；使用负性光刻胶工艺，形成的图形与掩膜版相反。
按照感光树脂的化学结构分类，光刻胶可以分为光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，进一步引发单体聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特点；光分解型，采用含有---醌类化合物的材料，其经光照后,发生光分解反应，可以制成正性胶；光交联型，采用---月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，可以制成负性光刻胶。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。
按照---波长分类，光刻胶可分为紫外光刻胶300~450nm、深紫外光刻胶160~280nm、极紫外光刻胶euv，13.5nm、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x射线光刻胶等。四、前烘softbake完成光刻胶的涂抹之后，需要进行软烘干操作，这一步骤也被称为前烘。不同---波长的光刻胶，其适用的光刻---分辨率不同，通常来说，在使用工艺方法一致的情况下，波长越小，加工分辨率越佳。
光刻胶市场
我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元，同比增长11%，高于国际市场增速，但全球占比仍不足15%，发展空间---。pr1-2000a1可以满足对附着能力较高的要求，在使用pr1-2000a1时一般不需要增粘剂，如hmds。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨，而需求量为10.12万吨，依照需求量及产量增速预计，未来仍将保持---的局面。据智研咨询估计，得益于我国平面显示和半导体产业的发展，我国光刻胶市场需求，在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上，我国光刻胶厂商主要生产pcb光刻胶，而lcd光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小，相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场，光刻胶也主要被美国futurrex 的光刻胶、日本合成橡胶jsr、东京应化tok、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。
|
光刻胶编码
hs编码:
|
3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释]
|
|
中文描述:
|
不含银的感光乳液剂 ciq码：301:液体
|
|
英文描述:
|
non--0--silver light-sensitive emulsion agent
|
|
申报要素:
|
0.品牌类型；正胶pr1-2000a1技术资料正胶pr1-2000a1是为---波长为365或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。1.出口享惠情况；2.用途；3.包装；4.成分；5.是否含银；6.品牌；7.型号；8.是否有感光作用以下要素仅上海海关要求9.gtin；10.cas
|
|
申报要素举例:
|
/ 1.感光剂；2.用途:感光材料，用于喷墨制版机；3.包装:瓶装；4.成分:---树脂94%以上；5.无品牌；6.无型号
|
|
单位:
|
千克
|
光刻胶
光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。常规光刻胶涂布工序的优化需要考虑滴胶速度、滴胶量、转速、环境温度和湿度等，这些因素的稳定性很重要。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光---后，它在显影液中的溶解度会发生变化。
分类
根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。
正胶
---前对显影液不可溶，而---后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。
优点：分辨率高、对比度好。
缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
灵敏度：---区域光刻胶完全溶解时所需的能量
负胶egative
photo resist
与正胶反之。
优点： ---的粘附能力和抗刻蚀能力、感-度快。
缺点： 显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。
灵敏度：保留---区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。
联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
推荐关键词：光刻胶,正性光刻胶,光刻胶公司
本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/20028022.html
登录后台
