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丽水制版公司团队在线服务 光刻版厂

发布者:苏州优版光电有限公司  时间:2020-11-4 






公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!

在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。缺点:批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同时生产,供货周期长。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际---中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。




光学掩模板的应用

光掩膜用于芯片制造,主要是ic集成电路芯片,还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及pc板等。

光掩膜所起的作用类似于底片之于相片,光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影,这种方法就是熟称的---,这个时候的掩膜也可称为光罩。

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掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版光掩膜基版由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上从而制作成掩膜版。







掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版(光掩膜基版)由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上从而制作成掩膜版。



根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。












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