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光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物,这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了-光刻版洁净,必须定期对光刻版进行清洗,而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
光罩英文:reticle, mask,在制作ic的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型-晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像至相片上。
掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过---将图形转印到产品基板上。
按石英含量可分为两类:长石石英岩,石英含量大于75%,常含长石及云母等矿物,长石含量一般少于20%。如长石含量增多,则过渡为浅粒岩。石英岩,石英含量大于90%,可含少量云母、长石、磁铁矿等矿物。
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