金属真空电镀厂-- 泰坦金属制品

 真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。真空电镀用这种工艺形成的镀层，真空电镀与零件外表既无牢固的化学结合。

  真空电镀的简单作用过程：真空电镀接通蒸发源交流电源，真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发，真空电镀进入辉光放电区并被电离。

电镀加工金属真空电镀厂

电镀工艺进程：一般包含电镀前预处理，电镀及镀后处理三个阶段。

对电镀层的要求：

1、镀层应结晶细致﹑平坦﹑厚度均匀

2、镀层应具有规则的厚定和尽可能少的孔隙

3、镀层与基体金属﹑镀层与镀层之间，应有杰出的结合力

4、镀层应具有规则的各项指标，如光亮度﹑硬度﹑导电性等。

电镀加工过程中可能会出现各种问题，给生产带来不方便。电镀加工过程的不规则性是一个遍及的问题。

pvd真空电镀金属真空电镀厂

当产品经pvd真空电镀时，将其置于夹具中并置于真空容器中。将装置抽真空至所需的真空压力。根据基材和使用的工艺，产品将被预热并进行溅射清洁。

     在溅射清洁完成之后，向阴极材料施加负电荷，并且如果基板是导电的，则向基板施加负偏压。pvd真空电镀的沉积材料以高能量水平到达基板，并沿基板表面行进，直到达到优选的成核位置。从源头连续轰击离子会溅射沉积材料，因此您不会遇到电镀涂层常见的大边缘堆积。

上面第2点提到的厚度是镀层的平均厚度，因为工件有凹凸，因此每个地方的电流密度也不尽相同，导致不同部位的厚度也不一样，工件越复杂，厚度差也越大。减少厚度差主要有以下这些方法：

 a.镀液中添加能减少厚度差的添加剂；

 b.尽量用较小的电流电镀；采用阴极移动；

 c.在工件的高电流区采用适当的屏蔽措施等。

 二、镀层厚度计算常用单位

  1、微米nm换算0.001毫米(mm)=1微米(μm)即千分之一毫米

  2、微英寸uin就是平时说的u读mai换算1um=39.4uin≈40uin

  3、毫英寸mil就是平时说的密耳。换算1mil=25.4um