在使用电子照相方法的打印技术中,已经渐进实现高速打印操作、高图像形成、彩色像形成、以及成像装置小型化,并且变得很普遍。此外,使用混入了导电性填充剂的电子导电性橡胶的导电辊,其电阻值与施加的电压有关,存在电阻值不固定的问题。---一直是这些改进的关键。为满足上述需要,必须形成精细分配的---颗粒,使得---颗粒的直径均一,并且使得---颗粒呈球形。至于形成精细分配的---颗粒的技术,近已经开发出直径不超过10nm的---和不超过5pm的---。至于使---呈球形的技术,已经开发出球形度99%以上的---。
磁控溅射靶材种类:金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,---物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,---物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材cr-sio,磷化铟靶材inp,铅靶材pbas,铟靶材inas。该半导电辊的目的在于通过---地平衡表面层和-的电阻值而获得---的静电充电特性。
各种纯度铝中的杂质含量及剩余电阻率如表2所示。铜互连的阻挡层用靶材包括ta、w、tasi、wsi等.但是ta、w都是难熔金属.制作相对困难,如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。超纯金属超纯的纯度也可以用剩余电阻率来测定,其值约为2×10-5。现代科学技术的发展趋势是对金属纯度要求越来越高。因为金属未能达到一定纯度的情况下,金属特性往往为杂质所掩盖。不仅是半导体材料,其他金属也有同样的情况,由于杂质存在影响金属的性能。
钨过去用作灯泡的灯丝,由于脆性而使处理上有困难,在适当提纯之后,这种缺点即可以克服钨丝也有掺杂及加工问题。
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