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嘉兴光罩信息 光刻板
发布者：苏州优版光电有限公司 时间：2020-12-7
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
标定板图纸内容如下：
1. 需要附上材料
2. 精度
3. 外形尺寸公差，厚度
4. 制作效果图纸：正负板之分等。如果考虑价格因素，需要强调多少倍率下面允许看到瑕疵
5. 需要提供详细的cad图纸图纸
光罩英文：reticle, mask，在制作ic的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型-晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。
刻蚀或离子注入完成后，将进行光刻的后一步，即将光刻胶去除，以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常，半导体器件制造整个过程中，会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻，而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。在显影之前必须保持各传动辊清洁，若牵引辊不干净，显影时印版易粘上脏点。
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