武汉车灯硅油保护镀膜设备多重优惠 至成镀膜设备制造厂家

实验室中使用小型镀膜设备

实验室中使用小型镀膜设备 我们在实验室中使用的基本上都是小型的镀膜设备，下面我们就来了解一下这种设备。 用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢或碳钢制作，有水冷却装置。 真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。 为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能-，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。 排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以-快速的工作循环，也要求-在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。

真空镀膜机中钨丝的注意事项

真空镀膜机中钨丝的注意事项： 钨在常温下有较好的耐酸、碱能力，但在潮湿的空气中易被氧化，所以细钨丝不能在潮湿环境中贮存过久。另外钨在1200℃上下就开始与碳起反应生成钨的碳化物，所以对灯丝的烧氢处理要注意这个问题，否则钨与其表面的石墨润滑剂起反应，则灯丝就要变脆断裂。 钨丝一旦经高温使用发生再结晶以后就变得很脆，在受冲击或震动的情况下极易断裂。在一些要求高-性的电光源产品中，为防止灯丝的断裂，常在掺杂钨丝中加入3～5％的铼，称为钨铼丝，它可以使钨的延脆转变温度下降到室温或室温以下。这是一种很奇特的铼效应，至今还未发现一种元素能代替铼，在钨中产生同样效应。

磁控溅射镀膜技术介绍

磁控溅射镀膜技术介绍 磁控溅射镀膜设备是一种具有结构简单、电器控制稳定性好等优点的真空镀膜机，其工艺技术的选择对薄膜的性能具有非常重要的影响。 磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程如下： 陶瓷片***超声清洗***装夹***抽本底真空***plasma清洗***加热***通气***预溅射***抽本底真空***溅射(或多次溅射)***镀af膜***破真空卸片***表面检验***性能测试***包装、入库。 以上工艺技术就是以磁控溅射镀膜设备为基础，选用合适的靶材和溅射工艺，制备出超硬的耐磨镀层，可以实现材料的高硬度、高耐磨、高耐划伤特性；同时，利用ncvm光学膜结构设计，设计出各层不同折射率材料，可以调配出任意颜色，使得陶瓷不仅硬度高、强度高，具备外观件、美观的特点，而且不会屏蔽电磁信号。 磁控溅射镀膜设备配合ncvm工艺，能够实现对于陶瓷电子消费品的表面装饰处理，在-陶瓷强度和硬度的同时，也能够提升其美观性和艺术性，-地满足消费者的个性化需求。ncvm镀膜主要是在真空条件下，通过相应的物理化学手段来对金属材料进行转换，以粒子的方式吸附在材料表面，形成镀膜层，相比较普通真空电镀，ncvm的技术含量更高，加工流程也复杂。 磁控溅射镀超硬膜，结合ncvm光学镀膜技术，其镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性以及致密度-特点，已在电子产品中获得大量应用。随着电子工业的迅猛发展，ncvm镀膜凭借本身-的性能，在真空电镀技术领域-，成为了电子消费品生产中的一项-，在--处理效果的同时，也能够消除电镀过程中重金属元素对于人体的危害，对其环境污染问题进行解决。

镀膜设备该选择哪种主泵配置

镀膜设备该选择哪种主泵配置 真空系统在镀膜设备行业中可谓是非常重要，是其不缺缺少的设备之一。目前常用的真空系统结构形式一般是由主泵及前级泵串联，加上阀门管道和真空测量仪表组成。而所选的主泵基本---为两种形式，分别为有油真空和无油真空系统。 那么什么是有油真空系统和无油真空系统呢？下面小编来给大家介绍一下： 有油真空系统基本是以油扩散泵为主泵，前级泵采用机械泵或者罗茨泵。我们知道，油扩散泵的压力方位比较大，同时抽气速率非常的高，能够达到每秒十几万升。其工作能力在业内是数一数二的，这也得益于其具有-的性能。从优点上来讲，有油真空系统工作-，没有振动，没有噪音，-，维护建档透支费用低，是很多厂家都喜欢使用的。但是其缺点也非常的明显，就是会形成污染源，大规格泵在这方面的---。 无油真空西永是使用分子泵和低温泵作为主泵的，其特点主要集中在能够连续大量抽气，可以获得清洁无油的真空。并且该系统启动时间快，停泵时间短。但是该系统抽重气体比抽轻气体快，对水蒸气类型的的抽速比较慢，当气体大量经过泵的时候，抽速就会下降的很快。 这两种真空镀膜设备各有各的优点和缺点，使用者应该考虑自己的需求来进行选购。