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pld450型脉冲激光镀膜介绍

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。

技术指标：

---真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描,控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫,

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃

脉冲激光沉积

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

在一阶段，激光束---在靶的表面。达到足够的高能量通量与短脉冲宽度时，靶表面的一切元素会快速受热，到达蒸发温度。物质会从靶中分离出来，而蒸发出来的物质的成分与靶的化学计量相同。pioneerpld系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。物质的瞬时熔化率---取决于激光照射到靶上的流量。熔化机制涉及许多复杂的物理现象，例如碰撞、热，与电子的激发、层离，以及流体力学。

在第二阶段，根据气体动力学定律，发射出来的物质有移向基片的倾向，并出现向前散射峰化现象。空间厚度随函数cosnθ而变化，而n>;>;1。激光光斑的面积与等离子的温度，对沉积膜是否均匀有重要的影响。在激光通过大直径靶材时可使其光栅扫描化rastering，以获得均匀性的薄膜。靶与基片的距离是另一个因素，支配熔化物质的角度范围。亦发现，将一块障板放近基片会缩小角度范围。

第三阶段是决定薄膜的关键。放出的高能核素碰击基片表面，可能对基片造成各种破坏。高能核素溅射表面的部分原子，而在入射流与受溅射原子之间，建立了一个碰撞区。公司生产、销售脉冲激光沉积,公司拥有---的销售团队和经营理念。膜在这个热能区碰撞区形成后立即生成，这个区域正好成为凝结粒子的较佳场所。只要凝结率比受溅射粒子的释放率高，热平衡状况便能够快速达到，由---熔化粒子流减弱，膜便能在基片表面生成。