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相对湿度在35%-40%之间能够作为一个令人满意的折中,半导体无尘车间、洁净室一般都运用额外的操控装置以约束静电荷的堆集。许多化学反响的速度,包含腐蚀的进程,将跟着相对湿度的zeng高而加速。一切暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的外表都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些外表是由能够与水反响的薄金属涂层组成时,高湿度能够使反响加速。幸运的是,一些金属,例如铝,能够与水构成一层维护形的氧化物,并阻止进一步的氧化反响;但另一种情况是,例如氧化铜,是不具有维护才能的,因而,在高湿度的环境中,铜制外表更容易遭到腐蚀。
工作人员在进入无尘车间要注意哪些?1、在进入无尘车间的时分,应该要先停止风淋。在工作的时分,包括胡须在内的一切毛发,都应该运用毛发护具来全部地遮盖住。以免掉落的毛发来对产品的消费形成影响。2、在工作中,工作人员应当尽量防止或者减少接触设备的产品的次数,假如能够,还是采取全自动的消费流程。假如一定要接触的话,应该先洗洁净手,并且戴上手套,避免对设备和产品形成污染。
实验室洁净度及压力梯度:主实验室:面积为150m2,净空高度为2.7m,规划温度空调操控,规划湿度能够思考添加抽湿机,洁净等级为三十万级—十万级,换气次数25次/小时,相对压力为+10pa,规划送风量900m3/h,过滤器送风口的风量为1000 m3/h。缓冲室:面积为2.9m2,净空高度为2.7m,洁净等级为十万级,换气次数15次/小时,相对压力为+5pa,规划送风量110m3/h,过滤器送风口的风量为500 m3/h。
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