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真空磁控阴极溅射法:平板玻璃在具有高真空的真空腔体内,处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极,在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材,从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层,溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离,蟹衍载流子,这样就能源源不断地轰击阴极,提供足够数量的正离子,形成的等离子区使持续辉光放电,其可以一次完成多层镀膜,有着的膜层均匀性,的边缘复盖和---的附着力。真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:(1)薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是:它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的,可将半园环形磁铁看成是---t微扇柱状磁铁的组合 。所以,其相应点磁标势较稳定,才能生产出均匀牢固的镀膜层。
---实践证明,大功率电子枪是钢带连续真空镀膜工艺的理想热源。这是因为
1电子枪发射的电子束经-后可达到---的能量密度,轰击坩埚镀膜材料,可使其温度达到3000℃以上,远比电弧温度高。
2电子束能量转化率---80%-90%,采用磁偏转系统可以方便地进行电子束-和扫描,加热均匀。
3电子束只轰击镀膜材料表面,不会由于其它材料的掺入而引起夹杂问题。
4电子枪蒸发镀膜机使用时的束斑直径、电功率、加束电压、扫描轨迹、频率等参数都容易实现调节。
5使用电子枪还可以在钢带镀膜生产过程中对被镀钢带进行真空预热,就是使用电子枪清洁钢带,轰击表面使其活化。通过电子束---的扫描,钢带表面温度控制在200~550℃,这种预热是钢带镀膜和提高镀膜附着力所必须的。
一、镀膜作业步骤:1.镀膜前洗净。2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜。3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录。4.上伞,将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片。parylene是这些组装方式的防护材料,5微米厚就---1000v以上直流击穿电压,因此在微机电系统中,parylene是一的电介质材料。5.区分需要镀膜镜片种类面别。6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷,吸,并添加药材。7.确认晶振片,监控片是否ok在新的位置。8.确认机台内无杂物,后关门排气加热。9.镀膜选取相应的制程。10.人员镀膜过程中进行监控。11.下伞,将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒。12.抽检,主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁。13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和u4---光光度计。14.伞架每圈抽1pcs共5圈。15.膜强度测试(采用3m胶带粘拉膜3次)。16.光谱量测ok后可送出。
镀材范围广,由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚---的可控性和重复性。真空镀膜层一般只有100nm,膜层的耐磨性和抗变色能力较差,施涂面涂层后,镀膜层与外界不直接接触,对镀膜层能起保护作用。不像五金电镀加工由于熔点的原因而---只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。
高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性,它主要适合于蒸镀塑料薄膜,也可用于纸张的蒸镀,但纸张的要求高,并对纸的定量有限度。高真空离子镀,又称高真空镀膜加工。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法,做出来的商品金属---强,表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,可选择原料种类多,这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。
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