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制版价格信息【苏州制版】
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造，主要是ic集成电路芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及pc板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的---，这个时候的掩膜也可称为光罩。
准纳光电制作掩膜板，光刻铬版，设计，制作，加工，批量化生产 蚀刻工艺 精度1um 承接掩模板，光刻铬板，标定板，光栅板，分划板，异型玻璃加工
透明基板1、透明玻璃 。石英玻璃quartz glass苏打玻璃soda-lime glass低膨胀玻璃low expansion glass2、透明树脂遮光膜1硬质遮光膜：铬膜氧化铁硅化钼硅。2乳胶。
掩膜版：通俗点理解，相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够，是洗不出来照片的。光刻机施工前，要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃，玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。
透镜：用透镜的光学原理，将掩膜版上的电路图按比例缩小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求---。
就是测量台移动的控制器，也是纳米级精度，要求。
光刻掩膜版又称光罩，英文为mask reticle，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。
1 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件gds格式2 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式------波长405nm，照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶通常为正胶发生光化学反应3 经过显影、定---，---区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层4 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。在用玻璃标定板标定时候都有遇到过标定板反光问题，有时候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下来，玻璃本身就是反光材料，灯光一亮反光---，甚至导致无法标定板。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。5 在有---的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。
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