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光催化氧化技术

光催化氧化技术光催化反应速率往往取决于反响物的浓度， tio2有稍稍的吸附才能，复合材料添加这些吸附才能，能够进步二氧化钛外表的颗粒层，然后环境中高浓度的有机物吸附在tio2周围，成果使得催化作用明显进步，在很多的研讨中运用了吸附剂与光催化设备复合，如沸石、氧化铝、硅土、丝光沸石和活性炭等等，这些吸附资料常作为tio2的载体，试验标明混合催化具有较高的降解率，并且除了tio2外zno在与活性炭的一起作用下也表现出较好的光催化作用。试验中别离以固定化光催化剂作为光催化设备填料，光催化氧化技术从驯化挂膜进行比照发现，uv光催化废气设备约24天便可到达安稳的降解作用，陶粒填料滤塔则大约需求27天才到达安稳的降解功率。

影响光催化氧化技术光催化净化的主要因素

光催化氧化技术光源及其强度

紫外线光源是光催化反响不行短少的重要部分，对光催化反响速率有着重要的影响。许多学者经过引进不同的金属离子或半导体对uv光催化剂进行改性以提高其活性和光敏性。理论上讲小于380nm的光频能够诱发tio2的光催化活性。虽然一些研讨者开发了可见光条件下的光催化反响，可是灭菌紫外线uvc 254nm荧光黑光灯(300–370 nm)仍然是醉广泛运用的光源。