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无锡光刻版的行业须知【苏州制版】

发布者:苏州优版光电有限公司  时间:2021-1-19 






公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!


蚀刻工艺通常称为版

刻蚀etch是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术,它是半导体制造工艺,微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化pattern处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。在用玻璃标定板标定时候都有遇到过标定板反光问题,有时候不能用背光源,只能用前置光源,光源投射下来,玻璃本身就是反光材料,灯光一亮反光---,甚至导致无法标定板。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺,并会根据客户的需求,设计刻蚀效果好且-的刻蚀解决方案。







目前全球范围内光刻掩膜版主要以生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由-生产商进行生产。






其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交,后续加工工艺由---完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤,要求用户对所提交的版图文件仔细核对,-图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明  。








石英掩膜版


使用石英玻璃为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整和耐磨,使用-,主要用于掩膜版


苏达掩膜版

使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版









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