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考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积-红外增透膜
发布者：伯东企业（上海）有限公司 时间：2021-3-3 14.155.89.*
传统蒸发技术的缺陷:
在传统的蒸发技术中, 凝聚粒子的能力低, 热蒸发薄膜的堆积密度较低, 具有明显的柱状结构, 造成膜本身不稳定, 光机性能蜕变、降低.
离子辅助沉积技术, 能够薄膜的性能, 高的堆积密度,了膜的光机性能.
通常的离子束源出口半径小, 离子束流有方向性且大小有限,使得达到被轰击表面的离子束流均匀性差, 轰击角不一致, 导致薄膜的均匀性差, 可利用的沉积面积有限, 甚至在有些情形, 沉积的薄膜层仅在沉积过程中受到不连续的辐照, 并非完全的离子辅助沉积薄膜.
考夫曼离子源 kdc 160 辅助沉积---红外增透膜优势:
伯东 kri 离子源克服了通常的离子束辅助镀膜技术的缺陷, 成为一种实用的离子辅助镀膜手段, 已经广泛运用于大型光学镀膜系统上.
为了获得大面积均匀、---异的红外光学薄膜, 增强其耐久性, 使膜层的机械性的红外增透膜, 某国内光学薄膜制造商采用伯东 kri 考夫曼离子源 kdc 160 用于辅助镀膜.
kri 考夫曼离子源 kdc 160 产品特点：
1. 离子束可选-/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
2. 离子束流: >650 ma; 离子动能: 100-1200 v; 中和器: 灯丝, 流量 (typical flow): 2-30 sccm.
3. 加热灯丝产生电子, 增强设计输出高, 稳定的电子流.
4. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
5. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
为了获得---的膜层, 离子源辅助镀膜需要在真空环境下进行, 因此镀膜腔体需要将真空度抽至8x10-4 pa, 该光学薄膜制造商采用普发 pfeiffer hipace 80 对镀膜腔体进行抽真空.
涡轮分子泵 hipace 80 技术参数
分子泵型号
接口 dn
抽速 l/s
压缩比
启动压强mbar
压力
全转速气体流量hpa l/s
启动时间
重量
进气口
排气口
氮气
n2
气he
氢气 h2
氮气
n2
氮气n2
hpa
氮气n2
min
kg
hipace 80
63
16
67
58
48
> 1x1011
22
< 1x10–7
1.3
1.75
2.4
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上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
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