射频离子源 RFICP 380成功用于辅助蒸镀TIO2薄膜

氧化钛(tio2)是一种具有多元晶格结构的光学镀膜材料, 氧化钛在550nm处的折射率可在2.2～2.7之间变化, 是一种-的高折射率材料. 因此, 氧化钛(tio2)是光学镀膜材料中---的材料之一.


离子源助镀镀膜可---膜层致密性、增加折射率、反射率, 提升产品性能指标.



某国内光学镀膜制造商为了制备 tio2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用离子源辅助蒸镀 tio_2薄膜.



经过与伯东---讨论, 该制造商终采用伯东 kri 射频离子源 rficp 380, 同时为了为镀膜工业提供稳定的合适的真空环境, 伯东---为制造商搭配大抽速分子泵组 hicube 700 pro, 采用金属密封, ---真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 l/s, --成膜.





美国 kri 射频离子源 rficp 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 ma

5. 离子动能: 100-1200 v

6. 中和器: lfn 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. rf generator 可根据工艺自行选择离子浓度, ex: 1kw/2kw

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固-

11. 通入气体可选 ar, kr, xe, o2, n2, h2, others



运行结果：

与正常蒸镀工艺相比, 基片温度相同条件下, 使用 kri 射频离子源 rficp 380 辅助沉积工艺, 可以有效提高的 tio2 薄膜折射率；离子束助镀工艺激光器峰值功率离散度小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸镀工艺.



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