KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MOS2 自润滑涂层

与液体润滑剂相比, 固体润滑剂-, 并且可在特殊场合和无油、真空等环境使用, 得到越来越多的应用.


常用的固体润滑剂mos2涂层蒸气气压低、迁移性弱, 作为固体润滑剂的航空航天领域. 真空环境中得到广泛的应用, 在2000℃真空环境中依然具有很低的摩擦因数.



随着科技发展, 离子源技术引入物---相沉积技术, 用于工模具涂层材料制备, 一直是 pvd 涂层技术的研究---.



离子源在涂层制备过程中首先可以清洗衬底获得清洁的表面, 其次高的离子/原子比率有利于获得-的涂层.



某大型研究结构采用 kri 射频离子源用于研究离子源辅助制备mos2 自润滑涂层. 其系统示意图如下:





其中 kri 射频离子源安装在右侧，左侧为钼靶, 真空泵安装在真空腔体里侧.



客户采用伯东 kri 射频离子源 rficp 380, 同时为了获得稳定的合适的真空环境, 伯东---为制造商搭配大抽速分子泵组 hicube 700 pro, 采用金属密封, ---真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 l/s.



美国 kri 射频离子源 rficp 380 特性:
1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 ma

5. 离子动能: 100-1200 v

6. 中和器: lfn 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. rf generator 可根据工艺自行选择离子浓度, ex: 1kw/2kw

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固-

11. 通入气体可选 ar, kr, xe, o2, n2, h2, others



运行结果：

kri 射频离子源 rfic 380成功用于辅助制备mos2自润滑涂层, 对mos2涂层有减膜作用,-提高了mos2涂层润滑.



上海伯东是美---夫曼公司 kri 离子源的国内总, 其中kri 离子源主要型号有:



kri 射频离子源 rficp 系列： rficp 380、rficp 220、rficp 140 、rficp 100、 rficp 40



kri 考夫曼离子源 gridded kdc 系列： kdc 160、kdc 100、kdc 75、kdc 40、kdc 10



kri 霍尔离子源 gridless eh 系列:eh 3000、eh 2000、eh 1000、eh 400、eh linear



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