多靶磁控溅射仪厂家咨询「多图」
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设备用途:
在光纤表面镀制纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的和牢固度。样品台可镀制多种型号光纤产品
系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。光纤磁控溅射镀膜机组成以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10pa的气或其它惰性气体,在阴极靶1-3kv直流负高压或13.56mhz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面,使得靶原子溅出并沉积在基片上,形成薄膜。溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
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磁控溅射镀膜设备是目种镀膜产品,相比传统的水电镀来讲,磁控溅射镀膜设备---性,能够掩盖,弥补多种水电镀的缺陷。
近年来磁控溅射镀膜设备技术得到了广泛的应用,现国内磁控溅射镀膜设备厂家---小小的也非常多,但是---于磁控溅射镀膜设备生产,
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