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真空计是真空磁控溅射镀膜机器上有什么作用

真空计：真空计是真空磁控溅射镀膜机器上的重要组成部分，它是检测镀膜机真空度的重要手段。真空计根据其工作原理可以分为真空计和相对真空计，真空计可以直接测量压强的高低，相对真空计只能间接测量真空度。蒸发系统主要指成膜装置部分，镀膜机器的成膜装置很多，有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式，鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍，因为此两种方式我应用的比较多。电子束蒸发的大优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。成膜控制系统，薄膜监控目前应用方式比较多，主要有：目视监控法，定极值值监控、水晶振荡监控、时间监控等等。本人主要介绍目视监控、定极值监控和水晶振荡监控三种。目视监控也叫直接监控，就是采用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有一定的误差，所以不是---确，需要依靠经验。

真空镀膜设备我们可能见到的有很多，如真空镀膜机等等，这里为大家介绍一种概述电磁屏蔽膜真空镀膜设备，具体如下：

电磁屏蔽膜真空镀膜设备是在手机、笔记本电脑、电话机、dvd等电子产品塑胶外壳表面上镀制电磁屏蔽emi薄膜的设备。该设备利用等离子体表面处理技术，并采用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合，以真空蒸发镀ag、cu，以磁控溅射镀ni/cr不锈钢，可实现不同电阻要求的emi镀膜。

电磁屏蔽emi膜真空镀膜设备特点及基本参数：

1.有卧式、立式结构，可实现单面同时镀膜；

2.生产效率,快速度达1分钟/节拍；

3.模组化设，维护方便；

4.镀膜工艺成熟，成品率高；

5.直流磁控溅射阴极可随客户要求选择；

6.真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成；

7.大尺寸；2200mm*1200mm(长*宽)；

8.小尺寸；500mm*400mm(长*宽)。

真空镀中对底涂层的要求：

对镀件与镀膜层有---的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。具有---的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能---。与面涂层有---的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有---的相溶性。施涂性能---。流平性能---，有适当的黏度、固化时间短。 真空镀对面涂层的要求：与镀膜层要有---的接触性能;与底涂层要有一定的相溶性;成膜性能与施涂---良;具有适当的机械强度;防潮、抗溶剂、耐腐蚀性能好。抗老化性能强。由于产品的特殊需要，在面涂层上还可进一步施涂超硬涂层或彩色涂层等。

真空镀膜设备节约资源,提高包装效率

真空镀膜设备节约资源，提高包装效率 真空镀膜设备真空镀铝纸的生产成本低于铝箔复合纸，这是因为真空镀膜设备真空镀铝纸的铝层厚度仅为0.02-0.04μm，是铝箔复合纸用铝量的1/200-1/300，---减少了金属铝的消耗； 当采用转移法生产真空镀铝纸时，中间介质pet膜还可以反复使用6次左右。真空镀膜机真空镀铝纸具有的成型效果，在烟包高速包装机上的包装速度更快，要比铝箔复合纸制成的烟包高出200包/分钟左右。