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硅生产的还原剂中灰分的，含灰分0.17-0.6%，固定碳90-95%，挥发分不大于3.5%-13%。化学用硅冶炼采用石油焦做还原剂，这

是因为它的灰分低，有利于提高产品。但由于石油焦电阻率小，反应性差，高温下易石墨化，用量偏大时，导致炉况不好控制，造成炉料不烧结、刺火---、电

耗高、出炉困难。 

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硅熔炼过程中，电炉电气参数的控制是由配电工作完成的。一般情况下就是控制电极的埋入---。浅埋电极，一般表明还原剂过剩，电极附近形成火眼，电弧

声响亮，出炉硅温度低，数量少、电耗高。深埋电极，如果炉料中还原剂过少，电极将处于较低位置。因为炉料电阻随着炉料中碳的减少而增大，电阻增大使电流负

荷下降，电极消耗增加，生产率降低。        

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金属硅的分类通常按金属硅成分所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类。按照金属硅中铁、铝、钙的含量，可把金属硅分为553、441、411、

421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。工业上，金属硅通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。

化学反应方程式： sio2 + 2c *** si + 2co

这样制得的硅纯度为97~98%，叫做金属硅。再将它融化后重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。        

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